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簡要描述：制冷加熱循環(huán)一體機，應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制，尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。解決化學醫(yī)藥工業(yè)用準確控溫的特殊裝置，用以滿足間歇反應器溫度控制或持續(xù)不斷的工藝進程的加熱及冷卻、恒溫系統(tǒng)。反應釜制冷加熱循環(huán)裝置安裝需要注意的問題
產(chǎn)品型號：SUNDI-575廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家更新時間：2024-01-06訪 問 量：627| 品牌 | LNEYA/無錫冠亞 | 價格區(qū)間 | 5萬-10萬 |
|---|---|---|---|
| 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 應用領域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,化工,生物產(chǎn)業(yè),石油,航天 |
無錫冠亞冷熱一體機典型應用于：
高壓反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、
雙層反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、微通道反應器冷熱源恒溫控制；
小型恒溫控制系統(tǒng)、蒸飽系統(tǒng)控溫、材料低溫高溫老化測試、
組合化學冷源熱源恒溫控制、半導體設備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制。
| 型號 | SUNDI-655WV | SUNDI-675WV | SUNDI-6A10WV | SUNDI-6A15WV | SUNDI-6A25WV | |
| 介質(zhì)溫度范圍 | -60℃～+300℃ (系統(tǒng)加壓3BAR) | |||||
| 控制系統(tǒng) | 前饋PID ,無模型自建樹算法，PLC控制器 | |||||
| 溫控模式選擇 | 物料溫度控制與設備出口溫度控制模式 可自由選擇 | |||||
| 溫差控制 | 設備出口溫度與反應物料溫度的溫差可控制、可設定 | |||||
| 程序編輯 | 可編制5條程序，每條程序可編制40段步驟 | |||||
| 通信協(xié)議 | MODBUS RTU 協(xié)議 RS 485接口 | |||||
| 外接入溫度反饋 | PT100或4～20mA或通信給定（默認PT100) | |||||
| 溫度反饋 | 設備導熱介質(zhì) 溫度、出口溫度、反應器物料溫度（外接溫度傳感器）三點溫度 | |||||
| 導熱介質(zhì)溫控精度 | ±0.5℃ | |||||
| 反應物料溫控精度 | ±1℃ | |||||
| 加熱功率 kW | 5.5 | 7.5 | 10 | 15 | 25 | |
| 制冷量 kW AT | 300℃ | 5.5 | 7.5 | 10 | 15 | 25 |
| 100℃ | 5.5 | 7.5 | 10 | 15 | 25 | |
| 20℃ | 5.5 | 7.5 | 10 | 15 | 25 | |
| -20℃ | 4.8 | 6 | 8.2 | 12 | 25 | |
| -40℃ | 2.3 | 3.1 | 4.8 | 7.8 | 18 | |
| -55℃ | 0.75 | 0.9 | 1.5 | 2.8 | 6 | |
| 流量壓力 max L/min bar | 35 | 50 | 60 | 110 | 150 | |
| 2 | 2 | 2.5 | 2.5 | 2.5 | ||
| 循環(huán)泵 | 冠亞磁力驅(qū)動泵 | |||||
| 壓縮機 | 法國泰康活塞壓縮機 | 意大利都凌/卡萊爾/艾默生 | ||||
| 膨脹閥 | 丹佛斯/艾默生熱力膨脹閥+艾默生電子膨脹閥 | |||||
| 蒸發(fā)器 | 丹佛斯/高力板式換熱器 | |||||
| 操作面板 | 7英寸彩色觸摸屏，溫度曲線顯示、記錄 | |||||
| 安全防護 | 具有自我診斷功能；冷凍機過載保護；高壓壓力開關，過載繼電器、熱保護裝置等多種安全保障功能。 | |||||
| 密閉循環(huán)系統(tǒng) | 整個系統(tǒng)為全密閉系統(tǒng)，高溫時不會有油霧、低溫不吸收空氣中水份，系統(tǒng)在運行中不會因為高溫使壓力上升，低溫自動補充導熱介質(zhì)。 | |||||
| 制冷劑 | R-404A/R23混合制冷劑 | |||||
| 接口尺寸 | G3/4 | G1 | G1 | G1 | DN32 PN10 | |
| 水冷型 W 溫度 20度 | 1800L/H 1.5bar~4bar G3/4 | 2100L/H 1.5bar~4bar G3/4 | 3000L/H 1.5bar~4bar G1 | 4000L/H 1.5bar~4bar G1 1/8 | 8.5m³/H 1.5bar~4bar DN40 | |
| 外形尺寸 cm | 55*100*175 | 55*100*175 | 70*100*175 | 80*120*185 | 100*150*185 | |
| 重量kg | 265 | 305 | 340 | 380 | 980 | |
| 電源 380V50HZ | 10kW | 14kW | 18kW | 26kW | 40kW | |
反應釜制冷加熱循環(huán)裝置安裝需要注意的問題
反應釜制冷加熱循環(huán)裝置安裝需要注意的問題
反應釜制冷加熱循環(huán)裝置以冷卻劑作為傳熱介質(zhì)，將其他需要冷卻的儀器或設備產(chǎn)生的熱量輸送出去，通過制冷系統(tǒng)將熱量送到設備外部，確保設備在正常溫度范圍內(nèi)工作。該裝置和儀表之間依靠裝置內(nèi)泵的壓力形成閉式介質(zhì)循環(huán)，通過溫度傳感器檢測介質(zhì)溫度，實現(xiàn)冷卻器的控制。
反應釜制冷加熱循環(huán)裝置應安裝在環(huán)境良好的實驗室內(nèi)；反應釜制冷加熱循環(huán)裝置應安裝在通風良好、無塵的穩(wěn)固地面或?qū)嶒炁_面上，避免飛沫、多蒸氣及可能發(fā)生流入、流滯、泄漏易燃氣體的地方，避免靠近可產(chǎn)生高頻設備的地方(高頻電焊機等)。
反應釜制冷加熱循環(huán)裝置在避免頻繁使用酸性溶液和頻繁使用特殊噴霧器(含硫化物等)的情況下，從維護和安裝時的方便和安全方面考慮，應盡量確保在室內(nèi)機和障礙物之間有足夠的空間。
使用300℃高低溫循環(huán)一體機離不開其規(guī)范的使用操作，300℃高低溫循環(huán)一體機在銷售時會與設備出廠時相應的300℃高低溫循環(huán)一體機使用說明書相對應，用戶在使用時可事先了解下。
反應釜制冷加熱循環(huán)裝置廣泛應用于各種實驗儀器設備，如：旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀、X射線衍射儀、ICP發(fā)射光譜儀、ICP質(zhì)譜儀、石墨爐原子吸收光譜儀、熒光分析儀、電子顯微鏡、生產(chǎn)試驗設備、數(shù)控機床、激光設備等。該機為一體式設備，冷凝器-壓縮機、蒸發(fā)器-循環(huán)水泵機組均安裝在同一機箱內(nèi)，此類機組一般安裝在室內(nèi)。
高低溫300℃循環(huán)一體機能實現(xiàn)200℃高溫、-20℃低溫恒溫測試，為用戶提供熱冷卻受控、恒溫均勻的場源，也可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源，全量程范圍內(nèi)的溫度控制，應用于石化、制藥等化學反應過程控制，半導體擴散爐擴散過程控制，在反應釜、全自動合成儀器、萃取和冷凝裝置中的恒溫控溫或外循環(huán)應用。
