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防爆單流體制冷加熱控溫裝置注意事項

簡要描述:防爆單流體制冷加熱控溫裝置注意事項,應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。解決化學醫(yī)藥工業(yè)用準確控溫的特殊裝置,用以滿足間歇反應器溫度控制或持續(xù)不斷的工藝進程的加熱及冷卻、恒溫系統(tǒng)。

  • 產(chǎn)品型號:SUNDI-575
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2024-01-06
  • 訪  問  量:914
詳情介紹
品牌LNEYA/無錫冠亞價格區(qū)間5萬-10萬
產(chǎn)地類別國產(chǎn)應用領域醫(yī)療衛(wèi)生,化工,生物產(chǎn)業(yè),石油,航天

<strong><strong><strong>實驗室高低溫循環(huán)裝置-反應釜制冷加熱機</strong></strong></strong> 

無錫冠亞冷熱一體機 

解決化學醫(yī)藥工業(yè)用準確控溫的特殊裝置, 

用以滿足間歇反應器溫度控制 

或持續(xù)不斷的工藝進程的加熱及冷卻、恒溫系統(tǒng)。 

<strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong>沈陽谷輪制冷機一體機-tcu制冷加熱系統(tǒng)</strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong> 

無錫冠亞冷熱一體機典型應用于:

高壓反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、

雙層反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、微通道反應器冷熱源恒溫控制;

小型恒溫控制系統(tǒng)、蒸飽系統(tǒng)控溫、材料低溫高溫老化測試、

組合化學冷源熱源恒溫控制、半導體設備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制。  

<strong><strong><strong>實驗室高低溫循環(huán)裝置-反應釜制冷加熱機</strong></strong></strong><strong><strong><strong>實驗室高低溫循環(huán)裝置-反應釜制冷加熱機</strong></strong></strong><strong><strong><strong>實驗室高低溫循環(huán)裝置-反應釜制冷加熱機</strong></strong></strong>

防爆單流體制冷加熱控溫裝置注意事項

防爆單流體制冷加熱控溫裝置注意事項

  今天無錫冠亞制冷設備小編和大家介紹一下防爆單流體制冷加熱控溫裝置的注意事項:

  防爆單流體制冷加熱控溫裝置,是采取機械形式制冷的低溫液體循環(huán)設備。具有提供低溫液體、低溫水浴的作用。結合旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)器,真空冷凍干燥箱、循環(huán)水式真空泵,磁力攪拌器等儀器,進行多功能低溫下的化學反應作業(yè)及藥物儲存。

  防爆單流體制冷加熱控溫裝置的使用注意事項:

  1、在運用防爆單流體制冷加熱控溫裝置之前在設備內(nèi)應加入液體介質(zhì)(純水,酒精,乙二醇和水的一比一溶液也可),介質(zhì)液面應沒過設備內(nèi)制冷盤管并低于作業(yè)臺20mm為宜。

  3、防止酸堿類等有腐蝕性的物質(zhì)進入設備內(nèi)腐蝕盤管以及內(nèi)膽。

  4、防爆單流體制冷加熱控溫裝置應安置于枯燥通風處,儀器周圍300mm內(nèi)無障礙物;

  5、因為酒精之類物質(zhì)簡單蒸發(fā),所以要常常留意觀察設備內(nèi)液面高低,當液面過低時,應及時增加液體介質(zhì)

  7、運用結束,所有開關置于關閉狀況,堵截電源;

  8、液體外循環(huán)時,客戶應特別留意引出管銜接處的牢固性,嚴防掉落,以免液體漏出。

  9、冷媒如需求外循環(huán)時要留意保溫管道的保溫,防止冷量的丟失。

  10、防爆單流體制冷加熱控溫裝置應做好常常性清潔作業(yè),持久不必,清空設備內(nèi)的介質(zhì),而且擦洗潔凈,堅持作業(yè)臺面和操作面板的整齊

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