簡要描述:催化劑評價裝置制冷加熱控溫系統(tǒng),應(yīng)用于對玻璃反應(yīng)釜、金屬反應(yīng)釜、生物反應(yīng)器進(jìn)行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應(yīng)過程中有需熱、放熱過程控制。解決化學(xué)醫(yī)藥工業(yè)用準(zhǔn)確控溫的特殊裝置,用以滿足間歇反應(yīng)器溫度控制或持續(xù)不斷的工藝進(jìn)程的加熱及冷卻、恒溫系統(tǒng)。
品牌 | LNEYA/無錫冠亞 | 價格區(qū)間 | 5萬-10萬 |
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產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,化工,生物產(chǎn)業(yè),石油,航天 |
無錫冠亞冷熱一體機(jī)
解決化學(xué)醫(yī)藥工業(yè)用準(zhǔn)確控溫的特殊裝置,
用以滿足間歇反應(yīng)器溫度控制
或持續(xù)不斷的工藝進(jìn)程的加熱及冷卻、恒溫系統(tǒng)。
無錫冠亞冷熱一體機(jī)典型應(yīng)用于:
高壓反應(yīng)釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、雙層玻璃反應(yīng)釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、
雙層反應(yīng)釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、微通道反應(yīng)器冷熱源恒溫控制;
小型恒溫控制系統(tǒng)、蒸飽系統(tǒng)控溫、材料低溫高溫老化測試、
組合化學(xué)冷源熱源恒溫控制、半導(dǎo)體設(shè)備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制。
催化劑評價裝置制冷加熱控溫系統(tǒng)反應(yīng)釜操作溫度較高,通?;瘜W(xué)反應(yīng)需要在一定的溫度條件下才能進(jìn)行,所以反應(yīng)釜既承受壓力又承受溫度。獲得高溫的方法通常有以下幾種:
水加溫:要求溫度不高時可采用,其加熱系統(tǒng)有敞開式和密閉式兩種。
蒸汽加熱:加熱溫度在100℃以下時,可用一個大氣壓以下的蒸汽來加熱;100~180℃范圍內(nèi),用飽和蒸汽;當(dāng)溫度更高時,可采用高壓過熱蒸汽。
用其它介質(zhì)加熱:若工藝要求必須在高溫下操作或欲避免采用高壓的加熱系統(tǒng)時,可用其它介質(zhì)來代替水和蒸汽,如礦物油(275~300℃)、聯(lián)苯醚混合劑(沸點258℃)、熔鹽(140~540℃)、液態(tài)鉛(熔點327℃)等。
電加熱:將電阻絲纏繞在反應(yīng)釜筒體的絕緣層上,或安裝在離反應(yīng)釜若干距離的特設(shè)絕緣體上,因此,在電阻絲與小型反應(yīng)釜體之間形成了不大的空間間隙。
催化劑評價裝置制冷加熱控溫系統(tǒng)反應(yīng)釜操作壓力較高。釜內(nèi)的壓力是化學(xué)反應(yīng)產(chǎn)生或由溫度升高而形成,壓力波動較大,有時操作不穩(wěn)定,突然的壓力升高可能超過正常壓力的幾倍,因此,大部分反應(yīng)釜屬于受壓容器。