簡要描述:實驗室高低溫循環(huán)裝置-反應釜制冷加熱機,應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。解決化學醫(yī)藥工業(yè)用準確控溫的特殊裝置,用以滿足間歇反應器溫度控制或持續(xù)不斷的工藝進程的加熱及冷卻、恒溫系統(tǒng)。
品牌 | LNEYA/無錫冠亞 | 價格區(qū)間 | 5萬-10萬 |
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產地類別 | 國產 | 應用領域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,化工,生物產業(yè),石油,航天 |
無錫冠亞冷熱一體機
解決化學醫(yī)藥工業(yè)用準確控溫的特殊裝置,
用以滿足間歇反應器溫度控制
或持續(xù)不斷的工藝進程的加熱及冷卻、恒溫系統(tǒng)。
無錫冠亞冷熱一體機典型應用于:
高壓反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、
雙層反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、微通道反應器冷熱源恒溫控制;
小型恒溫控制系統(tǒng)、蒸飽系統(tǒng)控溫、材料低溫高溫老化測試、
組合化學冷源熱源恒溫控制、半導體設備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制。
實驗室高低溫循環(huán)裝置-反應釜制冷加熱機
實驗室高低溫循環(huán)裝置-反應釜制冷加熱機
不同廠家的實驗室高低溫循環(huán)裝置的性能是有所區(qū)別的,無錫冠亞致力打造高配置實驗室高低溫循環(huán)裝置,為用戶解決制冷加熱控溫難題,那么實驗室高低溫循環(huán)裝置發(fā)生溫度循環(huán)失效改怎么解決呢?
實驗室高低溫循環(huán)裝置溫度循環(huán)基本參數(shù)主要有6個:①上限溫度;②下限溫度;③溫度變化速率;④上限溫度保溫時間;⑤下限溫度保溫時間;⑥循環(huán)次數(shù)。在實驗室高低溫循環(huán)裝置溫度循環(huán)試驗中,實驗室高低溫循環(huán)裝置內的氣流均勻度是一個很重要的參數(shù),該參數(shù)將影響產品的溫度變化速率。溫度循環(huán)誘發(fā)失效的機理及敏感元件:溫度循環(huán)使不同膨脹系數(shù)的不同材料的膨脹情況不同,造成剝離、開裂、其敏感元件如油漆涂覆層等。
實驗室高低溫循環(huán)裝置溫度循環(huán)使螺絲連接或鉚接不牢的接頭松弛,其敏感元件如螺絲、鉚接部件等;溫度循環(huán)使機械張力不足的壓配接頭松弛;高低溫交變試驗箱 溫度循環(huán)使材質差的釬焊接觸電阻加大或誘發(fā)開路,其敏感元件如電阻元件等;溫度循環(huán)使觸點腐蝕和污染,元件如合金材料等。
所以,對于用戶來說,高性能配置的實驗室高低溫循環(huán)裝置是很重要的,便宜的實驗室高低溫循環(huán)裝置不一定好用,貴的實驗室高低溫循環(huán)裝置總不會出錯。