使用無(wú)錫冠亞單流體熱傳遞控溫系統(tǒng)的優(yōu)點(diǎn)：
A、用戶可以在一個(gè)較寬的溫度范圍得到一個(gè)密閉的、可重復(fù)的溫度控制，可實(shí)現(xiàn)-120度～300度控溫；
B、避免了傳統(tǒng)設(shè)備設(shè)施的更換及夾套維護(hù)的需求;較小的流體體積也保證了控制回路快速的反應(yīng)并且熱反應(yīng)延遲很??；
C、內(nèi)置電加熱導(dǎo)熱油輔助系統(tǒng)，可根據(jù)需求自動(dòng)開啟輔助加熱系統(tǒng)，降低蒸汽使用壓力；
D、可以通過(guò)快速運(yùn)行準(zhǔn)確配比各熱量需求，達(dá)到節(jié)約能源目的；
E、通過(guò)準(zhǔn)確快速運(yùn)算控制整個(gè)反應(yīng)過(guò)程溫度，對(duì)于整個(gè)反應(yīng)過(guò)程中出現(xiàn)放熱和吸熱反應(yīng)進(jìn)行快速響應(yīng)控制；
F、預(yù)留有標(biāo)準(zhǔn)化接口，可根據(jù)實(shí)際需求增加冷熱源換熱模塊；
G、可選擇控制反應(yīng)過(guò)程溫度和單流體溫度，同時(shí)反應(yīng)過(guò)程溫度與導(dǎo)熱單流體溫度之間的溫差是可設(shè)定可控制的；
H、可進(jìn)行配方管理與生產(chǎn)過(guò)程記錄；

無(wú)錫冠亞高低溫循環(huán)裝置ZLF-35NH TCU控溫

無(wú)錫冠亞高低溫循環(huán)裝置ZLF-35NH TCU控溫

　　隨著社會(huì)的發(fā)展，化工行業(yè)得到進(jìn)一步發(fā)展。在化工生產(chǎn)中非常重要的一個(gè)設(shè)備是反應(yīng)釜，其對(duì)于化工生產(chǎn)的質(zhì)量有很大影響。為了能夠更好地確保生產(chǎn)環(huán)境，在進(jìn)行實(shí)際應(yīng)用的時(shí)候需要從多個(gè)角度進(jìn)行控制，并重點(diǎn)加強(qiáng)反應(yīng)釜的溫度系統(tǒng)控制，從而能夠保障監(jiān)控環(huán)境處于良好狀態(tài)，確保在實(shí)際生產(chǎn)過(guò)程中通過(guò)人機(jī)界面實(shí)時(shí)調(diào)試溫度狀況，確保生產(chǎn)工藝符合相關(guān)要求?；诖耍瑹o(wú)錫冠亞推出了高低溫循環(huán)裝置。

　　化工生產(chǎn)的過(guò)程中會(huì)使用反應(yīng)釜，該設(shè)備具有自身的特點(diǎn)，整個(gè)化學(xué)反應(yīng)比較復(fù)雜，同時(shí)反應(yīng)機(jī)理也比較復(fù)雜，并且也會(huì)受到多個(gè)方面因素的影響，主要是催化劑的類型、外界條件、原料添加量的變化等，都會(huì)直接影響系統(tǒng)的正常運(yùn)行。在化學(xué)反應(yīng)的時(shí)候由于一些方法比較復(fù)雜，主要是轉(zhuǎn)化率方面，因此為了確保質(zhì)量，加強(qiáng)反應(yīng)溫度的控制非常重要。

　　就目前的情況來(lái)看，反應(yīng)釜的溫度控制主要是受到了化學(xué)反應(yīng)的工藝制度的影響，因此為了能夠更好地控制反應(yīng)釜溫度，需要熟悉相關(guān)工藝制度。但是因?yàn)楦叩蜏匮h(huán)裝置溫度控制比較復(fù)雜，因此在實(shí)際應(yīng)用中需要從以下幾個(gè)方面進(jìn)行 ：

　?、賹?duì)供熱制度進(jìn)行控制，確保反應(yīng)溫度處于一個(gè)恒定狀態(tài)。

　?、谶M(jìn)行釜型與結(jié)構(gòu)的有效控制，同時(shí)需要確保整個(gè)過(guò)程的密封性，保障產(chǎn)品質(zhì)量。

　?、壑攸c(diǎn)加強(qiáng)壓力控制，確保整個(gè)反應(yīng)過(guò)程充分，防止發(fā)生危險(xiǎn)情況。

④確保整個(gè)自動(dòng)化控制系統(tǒng)更加經(jīng)濟(jì)可靠，保證溫度處于正常范圍內(nèi)，從而能夠有效地降低反應(yīng)時(shí)間。