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半導(dǎo)體溫控裝置Chiller,反應(yīng)釜控溫系統(tǒng)

簡要描述:半導(dǎo)體溫控裝置Chiller,反應(yīng)釜控溫系統(tǒng)廠家的典型應(yīng)用:
高壓反應(yīng)釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、雙層玻璃反應(yīng)釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、雙層反應(yīng)釜冷熱源動態(tài)恒溫控制;
微通道反應(yīng)器冷熱源恒溫控制、小型恒溫控制系統(tǒng)、蒸飽系統(tǒng)控溫、材料低溫高溫老化測試;
組合化學(xué)冷源熱源恒溫控制、半導(dǎo)體設(shè)備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制。

  • 產(chǎn)品型號:無錫冠亞
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2024-01-01
  • 訪  問  量:1117
詳情介紹
品牌LNEYA/無錫冠亞價格區(qū)間面議
產(chǎn)地類別國產(chǎn)應(yīng)用領(lǐng)域石油,電子,印刷包裝,汽車,電氣

 

<strong><strong><strong>閉式冷熱循環(huán)機(jī)-無錫冠亞廠家品牌</strong></strong></strong>

 

適合化工、制藥、生化等低溫反應(yīng)設(shè)備

全密閉管道式設(shè)計(jì),高效板式熱交換器, 應(yīng)用于對玻璃反應(yīng)釜、金屬反應(yīng)釜、生物反應(yīng)器進(jìn)行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應(yīng)過程中有需熱、放熱過程控制。
應(yīng)用于對玻璃反應(yīng)釜、金屬反應(yīng)釜、生物反應(yīng)器進(jìn)行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應(yīng)過程中有需熱、放熱過程控制

 

型號SUNDI-320SUNDI-420WSUNDI-430W
介質(zhì)溫度范圍-30℃~180℃-40℃~180℃-40℃~200℃
控制系統(tǒng)前饋PID ,無模型自建樹算法,PLC控制器
溫控模式選擇物料溫度控制與設(shè)備出口溫度控制模式 可自由選擇
溫差控制設(shè)備出口溫度與反應(yīng)物料溫度的溫差可控制、可設(shè)定
程序編輯可編制10條程序,每條程序可編制42段步驟
通信協(xié)議MODBUS RTU 協(xié)議  RS 485接口
物料溫度反饋PT100
溫度反饋設(shè)備溫度、設(shè)備出口溫度、反應(yīng)器物料溫度(外接溫度傳感器)三點(diǎn)溫度
導(dǎo)熱介質(zhì)溫控精度±0.5℃
反應(yīng)物料溫控精度±1℃
加熱功率2KW2KW3KW
制冷能力180℃1.5kW1.8kW3kW
50℃1.5kW1.8kW3kW
0℃1.5kW1.8kW3kW
-5℃0.9kW1.2kW2kW
-20℃0.6kW1kW1.5kW
-35℃ 0.3kW0.5kW
循環(huán)泵流量、壓力max10L/min 
0.8bar
max10L/min 
0.8bar
max20L/min 
2bar
壓縮機(jī)思科普思科普法國泰康
膨脹閥丹佛斯/艾默生熱力膨脹閥
蒸發(fā)器丹佛斯/高力板式換熱器
操作面板7英寸彩色觸摸屏,溫度曲線顯示、記錄
安全防護(hù)具有自我診斷功能;冷凍機(jī)過載保護(hù);高壓壓力開關(guān),過載繼電器、熱保護(hù)裝置等多種安全保障功能。
密閉循環(huán)系統(tǒng)整個系統(tǒng)為全密閉系統(tǒng),高溫時不會有油霧、低溫不吸收空氣中水份,系統(tǒng)在運(yùn)行中不會因?yàn)楦邷厥箟毫ι仙?,低溫自動補(bǔ)充導(dǎo)熱介質(zhì)。
制冷劑R-404A/R507C
接口尺寸G1/2G1/2G1/2
水冷型 W
溫度 20度
 450L/H
1.5bar~4bar
550L/H
1.5bar~4bar
外型尺寸mm400*600*870400*600*870400*600*1150
正壓防爆尺寸 700*750*1215700*750*1215
標(biāo)配重量55kg55kg85kg
電源AC 220V 50HZ 2.9kW(max)AC 220V 50HZ 3.3kW(max)AC380V 50HZ  4.5kW(max)
外殼材質(zhì)SUS 304SUS 304SUS 304
選配 正壓防爆  后綴加PEX
選配可選配以太網(wǎng)接口,配置電腦操作軟件
選配選配外置觸摸屏控制器,通信線距離10M
選配電源100V 50HZ單相,110V 60HZ 單相,230V 60HZ 單相, 220V 60HZ 三相,440V~460V 60HZ 三相

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半導(dǎo)體溫控裝置Chiller,反應(yīng)釜控溫系統(tǒng)廠家

半導(dǎo)體溫控裝置Chiller,反應(yīng)釜控溫系統(tǒng)廠家

制冷加熱裝置也稱之為:制冷加熱動態(tài)控溫系統(tǒng)、高低溫一體機(jī)、制冷加熱循環(huán)裝置等,不同企業(yè)給予的名稱不同,是專門給反應(yīng)釜做升降溫用,整個循環(huán)系統(tǒng)的導(dǎo)熱介質(zhì)是全密閉循環(huán),循環(huán)系統(tǒng)帶有液體膨脹容器,膨脹容器和液體循環(huán)是獨(dú)立系統(tǒng),膨脹容器并不參與液體循環(huán),只是機(jī)械的連接。就算高溫運(yùn)行的情況下,膨脹容器中的導(dǎo)熱介質(zhì)都不會高于50度。

 

無錫冠亞擁有數(shù)位在超低溫、高低溫開發(fā)方面具有豐富經(jīng)驗(yàn)的高素質(zhì)專業(yè)設(shè)計(jì)人員的研發(fā)隊(duì)伍。特別是反應(yīng)釜控溫為單一介質(zhì)控制 -90度~+250 度連續(xù)控溫。產(chǎn)品溫度范圍涉及-152度到350度,還可以根據(jù)客戶的需求進(jìn)行非標(biāo)加工定做。

科學(xué)技術(shù)的發(fā)展也不斷加速了化工制藥行業(yè)的研發(fā)工作,從而促進(jìn)了實(shí)驗(yàn)儀器設(shè)備的不斷發(fā)展,我國現(xiàn)在處于儀器設(shè)備高度發(fā)展時期,制冷加熱裝置也迎來了廣闊的前景,進(jìn)入了快速發(fā)展時期。

據(jù)無錫冠亞技術(shù)人員介紹,制冷加熱裝置采用的導(dǎo)熱介質(zhì)在一個密閉的系統(tǒng)中,帶有導(dǎo)熱介質(zhì)的膨脹容器不參與循環(huán)過程,無論是高溫低溫,膨脹容器的溫度始終保持在常溫60℃,延長了導(dǎo)熱介質(zhì)的使用壽命。由于使用的是同一介質(zhì),不需要更換介質(zhì)和在不需要加壓的情況下就可以實(shí)現(xiàn)-90℃~195℃、-70℃~220℃、-55℃~250℃、-25℃~300℃連續(xù)控溫。只用同一種介質(zhì)就可以快速響應(yīng)控制溫度,可以在-120℃~300℃范圍內(nèi)實(shí)現(xiàn)流體系統(tǒng)控溫。單一壓縮機(jī)制冷技術(shù)可以達(dá)到-150℃的溫度,并且體積更小,更容易抬放。

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