無(wú)錫冠亞—品牌—疊氦化反應(yīng)設(shè)備tcu控溫

無(wú)錫冠亞—品牌—疊氦化反應(yīng)設(shè)備tcu控溫

無(wú)錫冠亞—品牌—疊氦化反應(yīng)設(shè)備tcu控溫

TCU控溫單元ZLF-200N是反應(yīng)釜控溫方面使用比較多的型號(hào)，對(duì)于需要購(gòu)買(mǎi)的客戶(hù)來(lái)說(shuō)，了解其功能是非常必要去了解的課題。

　　TCU溫度控制單元是在化工、制藥等多種行業(yè)需要反應(yīng)釜控制的時(shí)候并使用的，多臺(tái)反應(yīng)釜制冷加熱控溫系統(tǒng)簡(jiǎn)稱(chēng)TCU。TCU溫度范圍從-25℃200℃，其他溫度范圍需要定制寬（-50℃250℃）般是2～20臺(tái)反應(yīng)釜集中式控制，每臺(tái)反應(yīng)釜均可以立設(shè)定物料溫度、夾套溫度，實(shí)現(xiàn)臺(tái)加熱換熱主機(jī)和多臺(tái)載冷劑控制換熱單元不同臺(tái)反應(yīng)釜目標(biāo)溫度。

　　TCU控溫單元ZLF-200N更加控制，采用精準(zhǔn)算法控制冷凍介質(zhì)和加熱介質(zhì)進(jìn)入反應(yīng)釜流體閥門(mén)的導(dǎo)通角，精準(zhǔn)控制進(jìn)入反應(yīng)釜夾套制冷加熱流體的流量。TCU控溫單元ZLF-200N從高溫往低溫降溫時(shí)，和加熱主機(jī)沒(méi)有關(guān)系，只是把夾套重點(diǎn)額導(dǎo)熱介質(zhì)溫度降低。

　　TCU控溫單元ZLF-200N采用超高溫柔性降溫技術(shù)，TCU控溫單元可以從高溫250度降溫通入冷卻水過(guò)程中，不會(huì)有水蒸氣產(chǎn)生，水溫溫升控制在40度以?xún)?nèi)，可以降低換熱器結(jié)垢風(fēng)險(xiǎn)。

　　TCU控溫單元ZLF-200N在配置上面標(biāo)配為換熱器為板式換熱器，提高冷卻及制冷速率，10寸彩色TFT觸摸屏圖形顯示、USB數(shù)據(jù)導(dǎo)出接口、RS485通信接口、工控組態(tài)軟件，可運(yùn)用工廠現(xiàn)有的制冷系統(tǒng)、加熱系統(tǒng)，降低投入成本。

　　TCU控溫單元ZLF-200N是擁有非常寬的溫度范圍，無(wú)需更換液體介質(zhì)（見(jiàn)導(dǎo)熱介質(zhì)運(yùn)用），高精度、智能型溫度控制，全密閉系統(tǒng)，延長(zhǎng)導(dǎo)熱液體壽命，性能*、。

　　另外，TCU控溫單元ZLF-200N還可以配置多功能報(bào)警系統(tǒng)和安全功能，如果有需要定制防爆型的TCU，也可以TCU專(zhuān)業(yè)廠家——無(wú)錫冠亞，私人訂制TCU。

　TCU主要用于反應(yīng)釜集中控溫的，般是配套使用，在使用TCU反應(yīng)釜的時(shí)候，定要注意清洗，要不然會(huì)影響TCU反應(yīng)釜的高效運(yùn)行。

　　TCU反應(yīng)釜機(jī)械清洗：

　　TCU反應(yīng)釜機(jī)械清洗的時(shí)候，采用高壓清洗裝置，使用高壓水流通過(guò)噴頭沖刷，將反應(yīng)釜內(nèi)壁及攪拌器表面上的堅(jiān)硬垢物擊碎，*剝離并清除掉。

　　TCU反應(yīng)釜機(jī)械清洗高壓清洗的原理為將水壓縮高壓，然后通過(guò)伸入釜內(nèi)的清釜機(jī)器人上安裝的噴嘴釋放。壓力能轉(zhuǎn)變?yōu)樗鞯膭?dòng)能，通過(guò)這個(gè)能量對(duì)壁面污垢進(jìn)行沖擊實(shí)現(xiàn)清洗、清除的效果。

　　TCU反應(yīng)釜機(jī)械清洗是單純的物理清洗，所使用的介質(zhì)為水，成本非常低，但是效率非常高，高壓水清洗所用時(shí)間短，與手工清洗相比較，能節(jié)省大量人力、物力、財(cái)力，還不會(huì)對(duì)TCU反應(yīng)釜造成損傷。

　　與原來(lái)手工清除相比，年下來(lái)能夠節(jié)省大塊的停釜清洗時(shí)間，若將這部分時(shí)間用于生產(chǎn)，將能額外產(chǎn)生可觀的經(jīng)濟(jì)效益。同時(shí)，高壓水不會(huì)對(duì)反應(yīng)釜內(nèi)壁造成任何損傷。目前在化工行業(yè)，高壓水射流清洗已經(jīng)逐步成為清洗方法的主流。

　　TCU反應(yīng)釜化學(xué)清洗：

　　TCU反應(yīng)釜在進(jìn)行化學(xué)清洗的時(shí)候，需要知道反應(yīng)釜設(shè)備內(nèi)的垢樣成分，好是取樣分析。確定污垢成分后先做試驗(yàn)，選用清洗劑同時(shí)通過(guò)試驗(yàn)確定對(duì)設(shè)備金屬不會(huì)造成腐蝕。然后通過(guò)現(xiàn)場(chǎng)架設(shè)臨時(shí)循環(huán)裝置將清洗液在設(shè)備內(nèi)循環(huán)流動(dòng)，洗去污垢。

　　在進(jìn)行TCU反應(yīng)釜清洗的時(shí)候，先用適量的水沖洗攪拌槳及釜內(nèi)壁，放盡，將溶劑通過(guò)加壓裝置流沖刷反應(yīng)釜。如未達(dá)到清洗效果，向反應(yīng)釜中加入適量的溶劑升溫?cái)嚢杌亓鬟_(dá)到清洗要求，然后將溶劑放出， 后用定量的溶劑沖洗反應(yīng)釜內(nèi)壁，放出。

　　TCU反應(yīng)釜人工進(jìn)釜手工清除：

　　TCU反應(yīng)釜人工進(jìn)釜手工清除成本是很低的，但是進(jìn)釜之前需要數(shù)小時(shí)的通風(fēng)換氣，清除過(guò)程中還須隨時(shí)監(jiān)視釜內(nèi)氧氣濃度，有缺氧的危險(xiǎn)；同時(shí)人工刮鏟除了不能*清理之外，還會(huì)造成反應(yīng)釜內(nèi)壁的滑傷，這些滑痕客觀上造成了殘留物的進(jìn)步附著。人進(jìn)釜清理也會(huì)造成產(chǎn)品衛(wèi)生上的問(wèn)題。般來(lái)說(shuō)，清理臺(tái)釜所需時(shí)間約為半天天。

　　TCU反應(yīng)釜清洗的三種方法各有利弊，機(jī)械清洗不會(huì)對(duì)設(shè)備產(chǎn)生腐蝕，對(duì)硬垢可以有效清洗，但是用時(shí)長(zhǎng)、勞動(dòng)強(qiáng)度大；化學(xué)清洗用工少，清洗時(shí)間短，清洗*，但是可能會(huì)造成設(shè)備被腐蝕；人工進(jìn)釜手工清除成本低，但是危險(xiǎn)性較大，不能*清理干凈。因此化學(xué)清洗應(yīng)用在污垢較軟、薄的工況，機(jī)械清洗應(yīng)用在污垢硬、厚的工況。

　　這三種TCU反應(yīng)釜清洗的知識(shí)希望能幫助到大家更加高效安全的使用反應(yīng)釜。

　　高的生產(chǎn)穩(wěn)定性和可重復(fù)性結(jié)果（提高生產(chǎn)產(chǎn)品的穩(wěn)定性）

　　如果TCU控溫單元ZLF-200N不能滿(mǎn)足大家，另外還有ZLF-35N、ZLF-50N、ZLF-80N、ZLF-125N等系列型號(hào)也可供大家選擇。