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半導(dǎo)體液冷器Chiller FPD制造裝置制冷機(jī)

簡(jiǎn)要描述:【無(wú)錫冠亞】半導(dǎo)體控溫解決方案主要產(chǎn)品包括半導(dǎo)體專(zhuān)?溫控設(shè)備、射流式?低溫沖擊測(cè)試機(jī)和半導(dǎo)體??藝廢?處理裝置等?設(shè)備,?泛應(yīng)?于半導(dǎo)體、LED、LCD、太陽(yáng)能光伏等領(lǐng)域。半導(dǎo)體液冷器Chiller FPD制造裝置制冷機(jī)

  • 產(chǎn)品型號(hào):LTS-202
  • 廠(chǎng)商性質(zhì):生產(chǎn)廠(chǎng)家
  • 更新時(shí)間:2024-01-11
  • 訪(fǎng)  問(wèn)  量:609
詳情介紹
品牌冠亞制冷冷卻方式水冷式
價(jià)格區(qū)間10萬(wàn)-50萬(wàn)產(chǎn)地類(lèi)別國(guó)產(chǎn)
儀器種類(lèi)一體式應(yīng)用領(lǐng)域化工,生物產(chǎn)業(yè),電子,制藥,汽車(chē)



無(wú)錫冠亞恒溫制冷技術(shù)有限公司的半導(dǎo)體控溫解決方案

主要產(chǎn)品包括半導(dǎo)體專(zhuān)?溫控設(shè)備、射流式?低溫沖擊測(cè)試機(jī)和半導(dǎo)體??藝廢?處理裝置等?設(shè)備,

?泛應(yīng)?于半導(dǎo)體、LED、LCD、太陽(yáng)能光伏等領(lǐng)域。




【 冠亞制冷 】半導(dǎo)體行業(yè)主營(yíng)控溫產(chǎn)品:

半導(dǎo)體專(zhuān)溫控設(shè)備

射流式?低溫沖擊測(cè)試機(jī)

半導(dǎo)體專(zhuān)用溫控設(shè)備chiller

Chiller氣體降溫控溫系統(tǒng)

Chiller直冷型

循環(huán)風(fēng)控溫裝置

半導(dǎo)體?低溫測(cè)試設(shè)備

電?設(shè)備?溫低溫恒溫測(cè)試?yán)錈嵩?/span>

射流式高低溫沖擊測(cè)試機(jī)

快速溫變控溫卡盤(pán)

數(shù)據(jù)中心液冷解決方案


型號(hào)FLT-002FLT-003FLT-004FLT-006FLT-008FLT-010FLT-015
FLT-002WFLT-003WFLT-004WFLT-006WFLT-008WFLT-010WFLT-015W
溫度范圍5℃~40℃
控溫精度±0.1℃
流量控制  10~25L/min  5bar max15~45L/min  6bar max25~75L/min  6bar max
制冷量at10℃6kw8kw10kw15 kw20kw25kw40kw
內(nèi)循環(huán)液容積4L5L6L8L10L12L20L
膨脹罐容積10L10L15L15L20L25L35L
制冷劑R410A
載冷劑硅油、氟化液、乙二醇水溶液、DI等  (DI溫度需要控制10℃以上)
進(jìn)出接口ZG1/2ZG1/2ZG3/4ZG3/4ZG3/4ZG1ZG1
冷卻水口ZG1/2ZG1/2ZG3/4ZG1ZG1ZG1ZG1 1/8
冷卻水流量at20℃1.5m3/h2m3/h2.5m3/h4m3/h4.5m3/h5.6m3/h9m3/h
電源380V3.5kW4kW5.5kW7kW9.5kW12kW16kW
溫度擴(kuò)展通過(guò)增加電加熱器,擴(kuò)展-25℃~80℃





半導(dǎo)體液冷器Chiller FPD制造裝置制冷機(jī)

半導(dǎo)體液冷器Chiller FPD制造裝置制冷機(jī)


  隨著科技的飛速發(fā)展,在這個(gè)微電子器件行業(yè)中,高精度、高穩(wěn)定性的電子設(shè)備是必要的。而為了確保這些設(shè)備的正常運(yùn)行,一個(gè)關(guān)鍵的設(shè)備——頂層介質(zhì)刻蝕單通道chiller,也扮演著一定的角色。

  頂層介質(zhì)刻蝕單通道頂層介質(zhì)刻蝕單通道chiller是一種用于冷卻電子設(shè)備的設(shè)備,它通過(guò)降低設(shè)備的溫度,保證其穩(wěn)定運(yùn)行,延長(zhǎng)其使用壽命。在微電子器件行業(yè)中,頂層介質(zhì)刻蝕單通道chiller的應(yīng)用范圍非常廣泛,從大型計(jì)算機(jī)服務(wù)器到小型移動(dòng)設(shè)備,都需要用到它。

  在微電子器件行業(yè)中,頂層介質(zhì)刻蝕單通道chiller的作用不僅僅局限于冷卻設(shè)備。它還可以通過(guò)控制設(shè)備的溫度,提高設(shè)備的性能和穩(wěn)定性。例如,在一些高精度的電子設(shè)備中,溫度的變化可能會(huì)對(duì)設(shè)備的性能產(chǎn)生影響。而通過(guò)使用頂層介質(zhì)刻蝕單通道chiller,可以確保設(shè)備的溫度始終保持在適合狀態(tài),從而提高設(shè)備的性能和穩(wěn)定性。

  除此之外,頂層介質(zhì)刻蝕單通道chiller還可以通過(guò)提高設(shè)備的散熱效率,減少設(shè)備的故障率。在一些高溫環(huán)境下,如果電子設(shè)備無(wú)法及時(shí)散熱,就可能會(huì)導(dǎo)致設(shè)備過(guò)熱、損壞。而通過(guò)使用頂層介質(zhì)刻蝕單通道chiller,可以確保設(shè)備的散熱效率得到提高,從而減少設(shè)備的故障率。

  在微電子器件行業(yè)中,頂層介質(zhì)刻蝕單通道chiller的選擇和使用也是非常重要的。要根據(jù)設(shè)備的具體需求選擇合適的頂層介質(zhì)刻蝕單通道chiller。其次,在使用過(guò)程中,要定期對(duì)頂層介質(zhì)刻蝕單通道chiller進(jìn)行檢查和維護(hù),確保其正常運(yùn)行。


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